金屬材料;冶金;鑄造;磨削;拋光設備的制造及處理,應用技術
  • 一種在金屬鋅上沉積氧化鋅薄膜的方法與流程
    本發明涉及金屬表面沉積氧化鋅薄膜的領域,尤其涉及在金屬鋅上沉積氧化鋅薄膜的方法。氧化鋅是一種寬禁帶(3.3eV)金屬氧化物半導體材料,且具有優異的生物相容性、生物可降解性、可見光波段透明性以及高電子遷移率等眾多優點。氧化鋅薄膜中存在鋅間隙和氧空穴等晶體缺陷,是一種n型半導體,在光電器件、傳...
  • 一種改善氣體分布的沉積室及MPCVD裝置的制作方法
    本發明屬于微波等離子體化學氣相沉積,具體涉及一種改善氣體分布的沉積室及MPCVD裝置。微波等離子體化學氣相沉積(Microwaveplasmachemicalvapordeposition)簡稱MPCVD,是將微波發生器產生的微波用波導管經隔離器進入沉積室,激勵沉積室中的氣...
  • 一種波導組件及微波等離子體化學氣相沉積裝置的制作方法
    本發明涉及微波等離子體化學氣相沉積,尤其涉及一種波導組件及微波等離子體化學氣相沉積裝置。微波等離子體化學氣相沉積(Microwaveplasmachemicalvapordeposition)簡稱MPCVD,是制備高質量金剛石制品最有效的方法,現已成為高速度、大面積、高質量...
  • 菱形硅片載片舟的冷卻裝置的制作方法
    本發明涉及一種菱形硅片載片舟的冷卻裝置。在低壓化學氣相沉積鍍膜中,先將工件放置在載片舟上,載片舟的支撐結構一般為多桿框架結構,并且設置若干放置工件的工位,行業內菱形硅片放置載片舟上時,需要豎直擺放,再將載片舟連通工件一起放入真空管式爐(即LPCVD),沉積物在沉積到工件表面,完成鍍膜作業,...
  • 一種特征尺寸可調控周期性納米線寬樣板及其制備方法與流程
    本發明屬于納米線寬樣板領域,具體涉及一種特征尺寸可調控周期性納米線寬樣板及其制備方法。迄今為止,研究人員們開發了眾多制作納米線寬樣板的方法;這些技術加工的線寬樣板尺寸大都在幾十納米到幾微米的范圍內。例如:紫外線光刻法、X射線光刻或同步輻射均可以制作納米級光柵線寬樣板,但是,這些方法也都存在...
  • 一種原位生長CNT層增強輕質合金膠接界面強度的方法與流程
    本發明涉及航空輕質合金膠接,特別涉及一種原位生長CNT層增強輕質合金膠接界面強度的方法。隨著科學技術的進步,鋁合金、鈦合金、鎂合金、鋁鋰合金等輕質合金材料在航空航天領域越來越廣泛;各種輕質合金構件的連接技術也愈發受到關注。鉚接、栓接等傳統的機械緊固連接技術盡管可以提供足夠的連接強度...
  • 一種等離子化學氣相沉積金屬基材表面納米膜的制備方法與流程
    本發明涉及等離子增強化學氣相沉積鍍膜,尤其涉及一種等離子化學氣相沉積金屬基材表面納米膜的制備方法。金屬基材產品表面一般經過陽極氧化等工藝處理,在其表面會形成一層金屬氧化物保護膜,該保護膜在一定程度上會起到保護金屬基底免受外界水汽等物質的侵蝕,具有一定的耐腐蝕性。但由于生產過程中,往...
  • 膜厚監測裝置及薄膜沉積設備的制作方法
    本發明涉及顯示,特別是涉及一種膜厚監測裝置及薄膜沉積設備。膜厚監測裝置是薄膜沉積設備中的重要系統,目前已有的膜厚監測裝置可自動更換其晶振片,而無需中斷過程;其中晶振片即為傳感器。晶振片不穩定或失效時,其中的控制器會立即發送旋轉信號,要求更換晶振片并將新晶振片旋轉到位,從而實現持續沉...
  • 一種高反射率層的制備方法以及反射結構與流程
    本發明涉及反射膜的制備,尤其涉及一種高反射率層的制備方法以及反射結構。反射膜一般分為兩類,一類是金屬反射膜,一類是全電介質反射膜。銀膜作為常見的金屬反射膜,在可見區以及紅外區波段內,具有高于一切已知材料的反射率。銀反射膜的鍍膜材料一般為銀或銀合金,膜層可以是單層或多層結構。銀膜可以設置在如...
  • 一種高散熱的旋轉陰極的制作方法
    本發明涉及一種高散熱的旋轉陰極。旋轉靶材的磁控濺射被廣泛地用于在基片上制作各種不同的薄膜。在磁控濺射中,待濺射的材料以圓柱形的形狀形成或被粘附到由剛性材料制成的圓柱形支撐管的外表面。磁控管總成被安置在管內并供應磁通量,磁通量穿過靶材,使得在靶材的外表面存在大量磁通量。磁場以一種方式設計,使...
  • 一種熱電堆熱流傳感器及其制作工藝的制作方法
    本發明涉及溫度傳感器,具體涉及一種熱電堆熱流傳感器及其制作工藝。熱電堆熱流傳感器是將熱電偶電勢信號進行累積疊加放大,提高傳感器的分辨率、提高測量精度和減小對檢測儀表的要求。目前市場上的熱電堆熱流傳感器主要采用K型偶絲串聯,但受限于偶絲加工直徑以及后續加工手段的影響,在有效面積內很難...
  • 半導體加工腔室及半導體加工設備的制作方法
    本申請涉及半導體加工,具體而言,本申請涉及一種半導體加工腔室及半導體加工設備。磁控濺射又稱為物理氣相沉積,是集成電路制造過程中沉積金屬層和相關材料廣泛采用的方法。一般說來,磁控濺射是在晶圓上沉積薄膜材料,尤其是沉積鋁金屬互連線。然而近些年來,用垂直互連技術在高深寬比的通孔中沉積電介...
  • 高通量薄膜沉積設備及薄膜沉積方法與流程
    本發明屬于氣相沉積,特別是涉及一種高通量薄膜沉積設備及薄膜沉積方法。一個二元系材料AxB1-x(其中x為元素A的成分比例),如果選擇x從0到1的10種成分組合,則可以基本獲得材料AxB1-x的性能。如果是一個三元系的材料AxByC1-x-y,如果要比較全面的研究,需要x,y各自獨立...
  • 基于超薄四面體碳膜修飾Al納米結構的表面增強拉曼襯底及其制備方法與流程
    本發明屬于納米材料,具體涉及一種基于超薄四面體碳膜修飾Al納米結構的表面增強拉曼襯底及其制備方法。表面增強拉曼光譜(SERS)技術在生物醫學等領域都有著廣泛的應用。相對于其它測量手段,拉曼探測具有分子識別和指紋性質,且對水溶液不敏感,對生物分子的探測尤其有用。但拉曼光譜的缺點是信號...
  • 蒸鍍用基板及其制造方法、蒸鍍方法與流程
    本發明涉及顯示面板制造,尤其涉及一種蒸鍍用基板及其制造方法、蒸鍍方法。OLED(OrganicLight-EmittingDiode,有機發光二極管)顯示裝置因其自發光、高對比度、高色域、寬視角、結構輕薄以及兼容柔性等特點,越來越受到顯示業界關注和青睞。在OLED顯示面板的制造...
  • 一種真空鍍膜機用密封圈鍍膜工裝及鍍膜方法與流程
    本發明屬于真空鍍膜,具體涉及一種真空鍍膜機用密封圈鍍膜工裝及鍍膜方法。類金剛石薄膜是一種高硬度和低摩擦系數的非晶碳薄膜,并能阻止外界氣體、液體等雜質侵入,形成耐磨保護層,可以顯著增強密封件的耐磨性。利用真空鍍膜技術在密封圈上沉積類金剛石薄膜,可以得到摩擦系數低、抗沖擊性強的...
  • 蒸鍍掩模及其前體、以及有機半導體元件的制造方法與流程
    本發明涉及蒸鍍掩模、帶框架的蒸鍍掩模、蒸鍍掩模前體、及有機半導體元件的制造方法。隨著使用有機EL元件的產品的大型化或基板尺寸的大型化,對蒸鍍掩模大型化的要求也不斷增加。而且,用于制造由金屬構成的蒸鍍掩模的金屬板也大型化。然而,在當前的金屬加工技術中,難以在大型的金屬板上高精度地形成...
  • 蒸鍍掩模的制造方法與流程
    而申請號為201711266191.6的發明專利申請又是申請號為201480003445.3(國際申請號為PCT/JP2014/050345)、國際申請日為2014年01月10日、發明名稱為“金屬板、金屬板的制造方法、和使用金屬板制造蒸鍍掩模的方法”的發明專利申請的分案申請。本發明涉及通過...
  • 檢測裝置、蒸鍍系統及檢測方法與流程
    本發明屬于顯示,尤其涉及檢測裝置、蒸鍍系統及檢測方法。顯示面板的基板的蒸鍍通常在真空的蒸鍍腔室內進行,在蒸鍍過程中,需要通過磁板將待蒸鍍基板和掩膜板進行對位壓合,若基板貼合磁板的表面不平整,會影響壓合效果,進而影響待蒸鍍基板的蒸鍍效果,最終影響顯示顯示面板的顯示效果。因此,對待蒸鍍...
  • 一種摻雜Cr的DLC涂層的制備方法與流程
    本發明屬于涂層材料,具體涉及一種摻雜Cr的DLC涂層的制備方法。物理氣相沉積技術表示在真空條件下,采用物理方法,將材料源——固體或液體表面氣化成氣態原子、分子或部分電離成離子,并通過低壓氣體(或等離子體)過程,在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術。申請號為“201210423...
技術分類
168娱乐3软件是骗局吗